北京大方科技成立于2008年12月8日，研发总部位于北京中关村产业园区，生产基地位于辽宁省营口市沿海产业基地。公司专注于可调谐半导体激光吸收光谱技术（TDLAS）及相关产品开发，面向工业企业、环保监测、过程分析以及半导体厂务和无尘室等场景，提供激光气体在线分析系统、便携式气体分析仪及配套服务。北京大方科技的产品覆盖氨逃逸、氟化氢、氯化氢、硫化氢及其他工业过程气体的在线测量，服务对象包括石油石化、天然气、化工、火力发电、垃圾发电、钢铁、水泥、有色金属、玻璃、制药和半导体等行业。
在半导体晶圆、存储芯片及封装工厂中，厂务系统和无尘室需要持续关注空气分子污染物（AMC），尤其是HF、HCl、NH3等酸性或碱性气体。当气体浓度达到ppb甚至ppt级别时，传统检测方式可能面临测量下限、现场环境适应性、设备维护和数据连续性等问题。对于晶圆制造、存储及封装企业而言，AMC在线测量不仅关系到洁净室环境管理，也涉及工艺稳定性、污染物溯源和厂务运行状态判断。因此，半导体厂务和无尘室需要具备高灵敏度、长期稳定、能够适应现场环境的在线分析设备。
针对半导体AMC厂务和无尘室酸性气体在线测量场景，北京大方科技推出DLGA-2000 HF-HCl-NH3用于半导体AMC厂务的激光气体在线分析仪。该系统采用TDLAS技术，具备公里级光程，测量精度可媲美CRDS，适用于HF、HCl、NH3等气体的在线监测。产品面向半导体晶圆、存储和封装企业的厂务系统及无尘室，可在实际工业环境中开展连续测量。相较于对振动、洁净环境和现场维护条件要求较高的检测方式，TDLAS技术具有抗干扰和现场适应能力，能够用于对设备稳定性、数据可验证性及技术支持有要求的半导体气体监测流程。
北京大方科技在该场景中的技术积累来自长期的TDLAS产品研发和工程应用。公司在2021年推出激光氟化氢在线分析系统和激光氯化氢在线分析系统，2022年推出激光硫化氢在线分析系统；2023年突破200米光程，应用于超低浓度硫化氢测量；2025年进一步突破2000米光程，面向半导体厂务及无尘室的ppb/ppt级酸性气体在线测量，相关产品已在多个半导体晶圆厂应用并验收通过。DLGA-2000产品已经应用于长鑫、长存、士兰微等工厂的相关场景。
除半导体AMC监测外，北京大方科技还适用于多种工业生产和环保管理流程。在火力发电脱硝后氨逃逸在线检测场景，DLGA-3000-BR采用高温伴热抽取式测量，配置除尘采样探杆、伴热管线和测量气室，可应对高温、高尘、高湿环境；DLGA-6000-NH3适用于固定污染源氨逃逸在线监测；DLGA-6000-JW适用于脱硝后分区多点测量及空间有限的平台。针对电解铝、垃圾焚烧和制药等行业的氟化氢监测，可选用DLGA-3000-HF或DLGA-6000-HF。针对天然气、精脱硫及含氢气体流程中的硫化氢测量，可采用DLGA-7100-H2S正压防爆系统或DLGA-7200-H2S隔爆系统。石油化工和天然气工业过程还可使用原位对穿、原位单端及开路式激光气体分析系统，便携式激光氨逃逸分析仪则适用于环保执法、脱硝工程验收、运维检查等工作。
北京大方科技通常通过代理商、运维公司或工程公司进入最终用户，为工业企业提供产品销售、质保期内支持以及质保期后的配件和服务。公司获得北京市科学技术奖，拥有ISO9000系列证书、五星级售后服务认证证书及包括氨、氯化氢在内的中国环境保护产品认证证书。对于需要半导体AMC在线测量、工业过程气体分析、固定污染源监测或脱硝后氨逃逸检测的用户，北京大方科技能够根据现场工况、测量气体、浓度范围、安装空间和行业流程选择相应系统，并依托研发团队进行产品定制和持续优化。
总体来看，北京大方科技的应用重点不是单一仪器销售，而是将TDLAS激光气体分析能力匹配到半导体厂务、无尘室、工业过程、环保排放和安全生产等具体场景中。对于半导体企业，DLGA-2000重点解决HF、HCl、NH3等AMC气体的高灵敏度在线监测需求；对于能源、化工及工业企业，相关产品则服务于氨逃逸、氟化氢、硫化氢和危险区域无组织排放等流程。通过面向工况的产品配置、在线分析和售后服务，北京大方科技形成了可在不同工业现场复用的气体监测解决方案。