北京大方科技成立于2008年12月8日，总部位于北京，研发总部位于北京中关村产业园区，生产基地位于辽宁省营口市沿海产业基地。公司所属行业为电子电工、仪器仪表，主要专注于可调谐半导体激光吸收光谱技术（TDLAS）的研发、产品开发、生产与服务，为工业企业提供激光气体在线分析、固定污染源气体监测和工艺过程气体检测产品。
北京大方科技的核心业务围绕工业气体浓度的连续、稳定和在线测量展开，产品覆盖激光氨逃逸在线分析系统、激光氟化氢在线分析系统、激光氯化氢在线分析及相关酸性气体检测系统、激光硫化氢在线分析系统、原位对穿及单端激光气体在线分析系统、开路式激光气体分析系统和便携式激光氨逃逸气体分析仪等。相关产品主要用于氨逃逸、氟化氢（HF）、氯化氢（HCl）、硫化氢（H2S）及氨（NH3）等气体的在线检测，帮助用户解决高温、高尘、高湿、振动、腐蚀、吸附、背景气体干扰、光路漂移和维护成本较高等测量问题。
在氨逃逸检测方面，DLGA-3000-BR激光氨逃逸在线分析系统采用高温伴热抽取式测量方式，测量气室位于烟道外，并通过采样探杆、过滤和全程伴热降低粉尘及铵盐结晶对测量的影响，适用于火力发电厂脱硝后氨逃逸在线检测。DLGA-6000-NH3和DLGA-6000-JW则面向固定污染源及工业企业脱硝后的在线测量，可用于空间有限的平台、喷氨优化和分区多点测量。便携式激光氨逃逸气体分析仪适合环保检查、脱硝工程验收、环保执法和日常运维检查等场景。
在半导体及精密制造领域，北京大方科技提供用于半导体AMC厂务和无尘室的激光气体在线分析仪，可检测HF、HCl、NH3等酸性气体。DLGA-2000 HF-HCl-NH3采用公里级光程，面向晶圆、存储芯片及封装企业的厂务气体监测需求。公司已实现2000米光程技术突破，相关产品应用于半导体工厂并通过验收，适用于对ppb、ppt级酸性气体检测、长期稳定运行和现场技术支持有要求的应用环境。
在其他工业场景中，DLGA-3000-HF和DLGA-6000-HF适用于电解铝、垃圾焚烧、制药等企业的工艺过程及总排口氟化氢检测；DLGA-7100-H2S正压防爆激光硫化氢在线分析系统和DLGA-7200-H2S隔爆激光硫化氢在线分析系统，面向精脱硫后及天然气精脱硫后的硫化氢测量；DLGA-5100原位对穿、单端激光气体在线分析系统可用于石油化工、天然气及工业生产过程；DLGA-9000开路式激光气体分析系统则适合石油石化等危险区域的无组织排放在线监测。
北京大方科技的客户覆盖石油石化、天然气、化工、火力发电、垃圾发电、钢铁、水泥、有色金属、玻璃、制药以及半导体晶圆和存储封装等工业企业。产品通常通过代理商、运维公司或工程公司进入最终用户现场，应用于环保排放监测、脱硝运行优化、工业过程控制、厂务系统监测、无尘室环境管理和设备运维检查等场景。公司产品已应用于国电投、中电投、华能、大唐、华润、国能、中石化，以及东海钢铁、敬业钢铁、金隅水泥等企业集团，并用于长鑫、长存、士兰微等半导体相关工厂。
北京大方科技采用模块化设计、内置参比池或标准小气室、光学器件保护、自检及自恢复等技术方案，提升设备在复杂工业现场的适应性。公司具备根据客户需求进行产品定制和技术优化的研发能力，能够围绕采样、伴热、光程、安装方式、防爆、防腐蚀及数据传输等要求提供相应产品与服务。公司拥有中国环境保护产品认证证书、ISO9000系列证书和五星级售后服务认证证书，并曾获得北京市科学技术奖。部分产品具备检测报告和适应性检测报告，可满足相关数据赋码及传输要求。
北京大方科技长期坚持工程师文化，创始人具有清华大学及斯坦福大学相关教育背景，并持续专注TDLAS技术二十余年。公司员工队伍保持较高稳定性，重视对客户的专业支持和对供应商的长期合作。未来，北京大方科技将继续围绕TDLAS激光气体在线分析技术，推进氨逃逸、氯化氢、氟化氢、硫化氢及半导体酸性气体检测产品的研发与应用，为工业企业的排放管理、过程控制和精密环境监测提供可持续的仪器仪表解决方案。