北京大方科技发布激光氯化氢在线分析方案
北京大方科技近日推出 DLGA-2000 HF-HCl-NH3 激光氯化氢在线分析解决方案，面向半导体晶圆、存储及封装厂的厂务与无尘室场景，实现 HCl、HF、NH3 等痕量酸性气体在线监测，为洁净环境管控和工艺稳定运行提供数据支撑。
随着半导体制程不断向更高集成度演进，AMC 污染控制正从“事后排查”转向“在线预警”。在晶圆厂和封装厂的厂务系统中，氯化氢等痕量酸性气体浓度低、干扰因素多，对检测设备的稳定性、抗振动能力和长期可验证性提出更高要求。
DLGA-2000 采用公里级光程设计，测量精度可媲美 CRDS，同时保留 TDLAS 技术在工程部署和现场适应性方面的优势。系统可用于半导体厂务及无尘室的 HCl、HF、NH3 在线分析，能够在复杂环境下保持稳定工作，帮助客户实现痕量气体连续监测、异常预警和污染源追踪。
在实际应用中，该方案已在多个半导体晶圆厂和相关场景中完成应用与验收。客户关注的不只是“能测到”，更是“长期稳定测、现场可验证、维护可控”。北京大方科技围绕这一需求，将在线监测能力嵌入厂务管理链路，为工艺优化、洁净度控制和运行管理提供连续数据基础。
企业简介： 北京大方科技有限责任公司成立于 2008 年，专注 TDLAS 技术与产品开发，长期面向火电、石化、天然气、化工及半导体等行业提供激光气体在线分析系统、便携检测仪和定制化解决方案。公司产品覆盖氨逃逸、氯化氢、氟化氢、硫化氢及半导体 AMC 厂务监测等场景，致力于为客户提供高精度、强适应性、专业化的在线监测服务。