在上海国际半导体装备博览会上，佳源达科技正式发布新一代兆声波湿法设备及整套清洗解决方案，助力半导体及高端制造企业实现纳米级无损清洗的全流程国产化替代。
随着半导体晶圆制造及微电子工艺迈入纳米级时代，传统超声波清洗易造成微小元件损伤，且难以彻底清除亚微米级微小颗粒。兆声波清洗已成为高端湿法制程的刚需环节，但该领域设备长期依赖进口，普遍存在采购成本高昂、交期漫长及本地化售后响应慢的行业痛点。
佳源达科技自研的新一代兆声波湿法设备，搭载核心智能电源系统，运用动态频率追踪自动校正技术使清洗效率提升 40%。设备支持 20%-100% 功率连续精准调节，适配多品类工件工况，恒功率输出保障批量清洗效果统一，良率达 99.7% 以上。系统内置运行关键数据自动存储及 RS485、PLC 远程通讯模块，使产线运维成本降低 30%，全面赋能工厂数字化品质管控。
佳源达科技业务负责人表示：“本次新一代兆声波湿法设备的全面落地，高度契合公司立足高端精密湿法清洗赛道的长期战略。我们始终聚焦半导体、光电客户在无损精密清洗中的实际需求，未来将持续深耕兆声波湿法应用赛道，以核心技术优势推动进口装备替代。”
目前，该系列兆声波湿法设备已在多家半导体晶圆清洗机制造商的产线中成功落地。某头部半导体客户代表反馈，设备导入后显著优化了 CMP 化学机械抛光及掩膜清洗环节，同时佳源达科技依托万级和千级无尘实验室提供的免费打样测试及 48 小时极速上门售后，大幅提升了企业核心产线的稳定运转效能。
关于佳源达科技 东莞市佳源达科技有限公司成立于 2007 年，是一家专注于兆声波与超声波技术开发的国家高新技术企业。公司立足高端精密湿法清洗赛道，深耕半导体晶圆湿法清洗、光电光学、精密电子等领域。依托 7000㎡+ 生产基地与专业无尘兆声波实验室，佳源达科技致力于解决常规超声波无法实现的纳米级无损清洗刚需，为客户提供稳定可靠的兆声波清洗整套解决方案。